水資源保全の取り組み

ICの製造には、徹底したウエハの洗浄が不可欠です。複雑な製品では500もの工程があり、5〜6工程に一回の割合で洗浄が必要なため、多いものは100回ほど洗浄する計算になります。
洗浄には、除去する物質に応じてフッ酸や硫酸などさまざまな化学薬品が使われ、さらに化学薬品のすすぎや最終洗浄には超純水を使用。一日に必要とされる洗浄水は、約400tにものぼります。
当社では、大切な水資源の節約利用を目指し、全工程で使われる洗浄水400tの内、薬品濃度が比較的薄い240tの排水を回収。 イオン交換樹脂とフィルターで不純物を除去し、超純水として再利用しています。このリサイクル活用は、地下水の枯渇を防ぐだけでなく、上水費用の削減も実現しています。
リサイクルに適さない残りの工場排水160tと生活排水90tは敷地内の排水処理施設に送ります。
そこで中和、浄化し、最後に塩素滅菌してから放流します。
放流水には、法や条例よりも厳しい自主基準値を設けて管理しています。実際には、その自主基準値よりもはるかに下回る数値で管理しています。
また、排水処理の過程で沈殿槽に毎日約450kgの残留物が沈殿します。 残留物は脱水した後、コンクリートサブ原料としてリサイクル利用されています。

クリーンルーム内での作業

クリーンルーム内での作業

半導体製造工程の一部

半導体製造工程の一部

シルコンウエハ

シリコンウエハ

水資源再利用フロー

排水処理施設

排水処理施設

放流前の透明な水

放流前の透明な水

コンクリートサブ原料にリサイクルされる残留物

コンクリートサブ原料にリサイクルされる残留物